如今，荷兰ASML公司是全球最大的光刻机制造商之一！但曾几何时，日本佳能在光刻机方面的地位与ASML不相上下，只不过，后来ASML工艺水平逐渐壮大，而佳能的研发停滞不前。

正当大家理所当然认为，佳能光刻机业务逐渐衰退时，转机来了！近日，据日媒报道，佳能将于2021年3月发售新型光刻机“FPA-3030i5a”，用来抢占高功能半导体市场。

时隔7年，佳能更新了面向小型基板的半导体光刻机，该设备使用波长为365纳米的“i线”光源，支持直径从2英寸（约5厘米）到8英寸（约20厘米）的小型基板，生产效率较以往机型提高了约17％。

拿工艺水平来说，佳能的这款新型光刻机为入门级，主要用途是帮助企业提高产能。除了主流的硅晶圆之外，该机还可以提高小型晶圆较多的化合物半导体的生产效率。包括功率器件耐压性等出色的碳化硅（SiC），以及作为5G相关半导体材料而受到期待的氮化镓（GaN）等。

对于佳能这一波“回归”操作，大家怎么看？