众所周知，目前荷兰ASML是全球唯一的EUV光刻设备生产商。此前有消息称，ASML面向3nm、2nm、甚至1nm工艺正开始研发下一代EUV光刻机，并计划于2022年初开始向下游客户出货。

如今，这事儿有进度了！

前不久，日本东京举办了ITF论坛。论坛上，与ASML合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm、 2nm、1.5nm和1nm以上逻辑器件小型化的路线图。

据台积电和三星电子介绍，当前7nm、5nm部分工艺已经推出了NA(Numerical Aperture)=0.33的EUV光刻设备，并通过降低波长来实现5nm工艺，但对于2nm以后的超精细工艺，需要实现更高的分辨率和更高的光刻设备。

目前，ASML已经完成了HIGH NA EUV光刻设备NXE：5000系列的基本设计。新款机器的光学系统非常庞大，基本上达到了常规洁净室的天花板。

如果计划不变，将在2022年开始出货，2024年到2025年大规模生产。